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Ein-Station Spin Coater für Forschungs- und Entwicklungslabore

Name: Ein-Station Spin Coater für Forschungs- und Entwicklungslabore
Brand: Dongguan Osmanuv Machinery Equipment Co., Ltd
SKU: Spezifikation
Price: 4,500.00 USD
Availability: InStock

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Bescheinigung

CHINA Dongguan Osmanuv Machinery Equipment Co., Ltd zertifizierungen

Kunden-Berichte

Bester Service, bestes Produkt, beste Qualität. Geben Sie Ihnen etwas Lob!

—— Daniel

Der Ernst der Haltung, die Finesse der Kunstfertigkeit ist zu Ihnen sehr zufriedenstellend!

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—— Diego Rodrigueez de Silva y VE

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—— George Smith

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Ein-Station Spin Coater für Forschungs- und Entwicklungslabore

Single Station Spin Coater for R&D Labs – Compact Benchtop Design with Customizable Speed up to 12,000 rpm

Großes Bild : Ein-Station Spin Coater für Forschungs- und Entwicklungslabore

Produktdetails:

Herkunftsort:	China
Markenname:	OSMANUV
Zertifizierung:	ISO9001
Modellnummer:	Spezifikation

Zahlung und Versand AGB:

Min Bestellmenge:	1 Satz
Preis:	Verhandelbar
Verpackung Informationen:	Holzverpackung
Lieferzeit:	30-45 Tage
Zahlungsbedingungen:	T/T
Versorgungsmaterial-Fähigkeit:	Verhandlung

Kontakt

Ein-Station Spin Coater für Forschungs- und Entwicklungslabore

Beschreibung

Anwendungstyp:	Industriell	Maschinengröße:	5000 mm2000 mm2000 mm
Maximale Geschwindigkeit:	1000 Blätter/h	Beschichtungseffizienz:	Hohe Effizienz
Steuerschnittstelle:	Ein 7-Zoll-Nylon-Touchscreen	Trocknungslänge:	24 m
Station:	24 Station	Maschinenabmessungen:	Länge 3000 mm x Breite 1500 mm x Höhe 1800 mm
Hervorheben:	Kompakter Spin-Coater auf der Bank , mit einem Durchmesser von mehr als 50 cm3 , Spincoater mit anpassbarer Geschwindigkeit

Einstationiger Spin Coater für Forschungs- und Entwicklungslabore – kompaktes Tischdesign mit anpassbarer Geschwindigkeit von bis zu 12.000 U/min

DasAnpassbarer Spincoater mit einer Stationist für die präzise Dünnschichtabscheidung auf Substraten wie Siliziumwafern, Glasobjektträgern und Polymerfilmen konzipiert. Verfügbar inTischforschung und -entwicklung,integrierte Kochplatte, UndHochgeschwindigkeitspräzisionKonfigurationen. Das System istvollständig anpassbarin Bezug auf Spannfuttergröße, Schleudergeschwindigkeitsbereich, Beschleunigungsrampenprofile und Schüsselmaterial. Ideal für die Fotolackbeschichtung, Sol-Gel-Abscheidung, Nanopartikelfilme und die Herstellung von Perowskit-Solarzellen in Forschungslabors und Pilotproduktionslinien. Das kompakte Design spart wertvollen Platz auf der Werkbank und sorgt gleichzeitig für außergewöhnliche Geschwindigkeitsstabilität (< ±1 % Schwankung) und einen vibrationsarmen Betrieb.

Technische Parameter

Parameter	Tischmodell für Forschung und Entwicklung	Modell mit integrierter Kochplatte	Hochgeschwindigkeits-Präzisionsmodell
Schleudergeschwindigkeitsbereich (anpassbar)	100 - 12.000 U/min	300 - 10.000 U/min	500 - 15.000 U/min
Geschwindigkeitsgenauigkeit	±1 U/min	±1 U/min	±0,5 U/min (Servomotor)
Beschleunigungskontrolle	100 - 10.000 U/min/s	Programmierbarer Mehrschritt	1 - 50.000 U/min/s
Substratgröße (anpassbar)	Bis zu 150 mm (6")	Bis zu 200 mm (8")	Bis zu 200 mm (8")
Temperaturbereich (optional)	N / A	Umgebungstemperatur – 300 °C	N/A (optionale Heizabdeckung)
Temperaturgenauigkeit	N / A	±1°C	N / A
Programmschritte	10 Programme mit je 20 Schritten	Bis zu 50 Rezepte	Unbegrenzt programmierbar
Vakuumsystem	Integrierte Pumpenschnittstelle	Integriertes Spannfutter + Pumpe	< 10⁻⁴ Torr (Turbo-Option)
Schüsselmaterial (anpassbar)	Polypropylen (PP)	Edelstahl, PTFE-Beschichtung	PTFE / Edelstahl 316L
Anzeige	4,3-Zoll-LCD	7" Farb-Touchscreen	7" HMI-Touchscreen
Auslassöffnung	Ø50 mm hinten	Ø110 mm	Ø110 mm (zwei Anschlüsse optional)
Stromversorgung	110/220 V, 50/60 Hz	220V, 50/60Hz	220V/380V, 50/60Hz
Abmessungen (ca.)	350 × 300 × 250 mm	450 × 350 × 250 mm	600 × 500 × 400 mm
Gewicht	~15 kg	~22 kg	~35 kg

Anwendungen

Halbleiter und MEMS: Fotolackbeschichtung auf Siliziumwafern, Elektronenstrahllithographie
Optoelektronik: OLED, Quantenpunkt-Dünnfilme, Antireflexbeschichtungen
Materialwissenschaft: Sol-Gel-Abscheidung, Spin-on-Glas (SOG), Nanopartikelfilme
Biotechnologie: Herstellung von Biosensoren, Beschichtung mikrofluidischer Geräte
Erneuerbare Energie: Perowskit-Solarzellen, Dünnschicht-Photovoltaik
Optische Industrie: Linsenhartbeschichtung (mit UV-Härtungsoption)

Anpassungsoptionen

Futterdesign und -größe: Maßgeschneiderte Vakuumspannfutter für runde (bis zu 12"/300 mm) oder quadratische/rechteckige Substrate
Schleuderdrehzahlbereich: Erweiterbar auf bis zu 15.000 U/min für ultradünne Filmanwendungen (<10 nm Dicke)
Geschwindigkeitsrampenprofile: Anpassbare Beschleunigungs-/Verzögerungskurven zur Kantenwulstkontrolle
Schüsselmaterial: Polypropylen (PP), PTFE, Edelstahl 316L – anpassbar für Lösungsmittelbeständigkeit
Temperaturintegration: Eingebaute Heizplatte (bis 300°C) oder abnehmbare Heizabdeckung (bis 150°C)
Abgabesystem: Manuelle Spritze, halbautomatische Dosierpumpe oder voll programmierbare automatische Abgabe
Auspuffkonfiguration: Hinten / links / rechts / zwei Anschlüsse – anpassbar
Motortyp: Bürstenloser Gleichstrom- oder hochpräziser Servomotor
Software: Rezeptverwaltung, Echtzeit-Geschwindigkeitskurvenanzeige, CSV-Datenexport
Reinraumkompatibilität: Klasse 10–100.000 mit Laminar-Flow-Option
Sicherheitsfunktionen: Deckelverriegelung, Not-Aus, Stickstoffspülung

Hauptmerkmale

Hohe Präzision: Geschwindigkeitsstabilität < ±1 % Schwankung für gleichmäßige Filmdicke
Vibrationsarmes Design: Bürstenloser Gleichstrom- oder Servomotor für die empfindliche Substratbearbeitung
Chemikalienbeständige Schüssel: Edelstahl- oder PTFE-Beschichtung für aggressive Lösungsmittel
Programmierbare Rezepte: Mehrstufige Geschwindigkeits- und Beschleunigungsprofile für komplexe Beschichtungsprozesse
Schnellwechselfutter: Werkzeugloser Spannfutterwechsel für verschiedene Substratgrößen
Sicherheitsverriegelung: Automatischer Stopp, wenn der Deckel während des Betriebs geöffnet wird
Datenexport: USB-Anschluss für Rezeptsicherung und Prozessdatenprotokollierung
Kompakte Stellfläche: Das Tischdesign spart wertvollen Laborraum
Dual-Use-Fähigkeit: Optionale Heizplatte für die Integration vor und nach dem Backen

Support und Dienstleistungen

Kostenlose Prozessberatung und Materialtests (senden Sie uns Ihre Substrate)
Installationsanleitung und Kalibrierungsvideo enthalten
Fehlerbehebung aus der Ferne innerhalb von 24 Stunden
18 Monate Garantie auf Motor und Steuerung, 12 Monate auf Zubehör
Ersatzteilverfügbarkeit aus lokalen Lagern (USA/EU/Asien)
Vor-Ort-Schulung (verfügbar für anpassbare Support-Pakete)
Lebenslanger technischer Support per E-Mail, Telefon oder Videoanruf

Verpackung und Versand

Verpackung: Antistatischer Schaumstoff + verstärkter Sperrholzkoffer (mit Trockenmittel für feuchtigkeitsempfindliche Komponenten)

Abmessungen (Standard): 55×45×45 cm Karton | Bruttogewicht: ~22 kg

Versand: FOB Shanghai / CIF per See-, Luft- oder Bahnweg

Vorlaufzeit: 7–15 Tage für Standardeinheiten; 20–30 Tage nach Bestätigung der Anpassung (kundenspezifische Spannfutter/Schüsseln benötigen länger)

Anpassbar: Exportverpackung, Dropshipping-Kennzeichnung und Dokumentation verfügbar

Häufig gestellte Fragen

F1: Was ist die maximale Substratgröße, die dieser Spin Coater verarbeiten kann?

A: Standardmodelle sind für einen Durchmesser von bis zu 150 mm (6 Zoll) oder 200 mm (8 Zoll) geeignet. Für größere Substrate bis zu 300 mm (12") Wafer oder 9" × 9" Quadrate bieten wir ananpassbarSpannfutterausführungen.

F2: Kann ich diesen Schleuderbeschichter für nicht runde Substrate (z. B. rechteckige Glasobjektträger) verwenden?

A: Ja. Wir bietenanpassbarVakuumspannfutter für quadratische, rechteckige und unregelmäßig geformte Substrate. Bitte geben Sie Ihre Substratabmessungen für die kundenspezifische Bearbeitung an.

F3: Was ist die typische Gleichmäßigkeit der Filmdicke?

A: Bei richtiger Prozessoptimierung kann die Dickengleichmäßigkeit auf einem 150-mm-Wafer <3 % erreichen. Die Ergebnisse variieren je nach Materialviskosität und Schleuderparametern – zur Bestätigung bieten wir kostenlose Labortests an.

Größe und Tag: